タッチスクリーン制御付きのシンプルな操作の真空誘導溶解炉

製品の説明

タッチスクリーン制御付きシンプル操作水平真空炉

水平真空炉の用途:

水平真空炉は、主に3000℃での各種炭素材料のグラファイト化実験および製造に使用されます。

炭素材料のグラファイト化、炭素繊維フィラメントなどの炭素環境で焼結可能な材料の定型化に適用されます。焼結プロセスの時間的ニーズに応じて、複数の電気炉を単一の電源に配置し、個々の炉の加熱と加熱をそれぞれ実行できます。電気冷却により、連続運転を実現します。

技術パラメータと仕様

1. 優れた安定性と低消費電力：世界初の二重層アルミナレンガ断熱材スタッキングを採用し、カーボンフェルトとコイルの短絡を防止し、優れた断熱性と耐火性を実現。

2. 低熱損失、優れた機器安定性;

3. 焼結プロセスの時間的ニーズに応じて、複数の電気炉を単一の電源に配置し、複数の炉にそれぞれ通電して温度を上昇させ、電源をオフにして冷却することにより、連続運転を実現します。

4. デジタル流量監視システム、各電源キャビネットの水流監視と保護、炉変換用の高性能中間周波数コンタクタ。包括的なPLC水、電気、ガス自動制御および保護システム。