炭化ケイ素真空焼結炉 内部循環冷却安定

製品の説明

炭化ケイ素真空焼結炉内部循環冷却

真空焼結炉の用途:

真空焼結炉は主に炭化ケイ素の再結晶に使用されます

主な技術性能と指標

最高動作温度: 2450 ° C

常用温度: 2400 ° C

加熱方法: 誘導加熱

炉内の作業ガス: 窒素アルゴン

温度均一性: ≤ ± 10 ° C

温度制御精度: ±1 °C

焼結プロセスの時間のニーズに応じて、複数の電気炉を単一の電源に配置し、個々の炉の加熱と冷却をそれぞれ実行して、連続運転を実現できます。

温度測定: WRe5/26熱電対 (0-1700 °C) + US RATEK二色温度計 (1000-3200 ° C); US RATEK単色温度計 (300-1100 ° C) + US RATEK二重比色温度計 (1000-3200 ° C)

温度制御: PIDインテリジェントプログラム制御と手動制御

優れたプロセス性能により、製品品質が新たな段階へ

炭化ケイ素焼結炉は優れたプロセス性能を備えており、製造される製品は均一な粒子、完全な反応、高い炭素含有量、および優れた品質を備えています。

このデバイスは、マルチチャネルデータ収集を採用し、マンマシンインターフェースに表示および操作します。操作パラメータは一目でわかり、操作は簡単で、労働強度は低いです。

このデバイスにはデータ記録およびダンプ機能があり、データは履歴曲線を通じて表示でき、モバイルストレージメディアに転送できます。

省エネ、特殊コイルと断熱構造、安定した電力出力、高い電気効率。