Forno de vácuo horizontal indutivo para carbeto de silício e cerâmica durável

Descrição de produto

Forno de Vácuo Horizontal Indutivo para Carbeto de Silício e Cerâmica

Aplicação do Forno de Vácuo Horizontal:

Forno de Vácuo Horizontal Indutivo é usado principalmente para sinterização a vácuo e sinterização em atmosfera de carbeto de silício, cerâmica, metal duro, metalurgia do pó, tungstênio, molibdênio, ímã permanente de alumínio-níquel-cobalto, Smco5, Sm2co17, galpão de liga de alumínio, liga de titânio e outros materiais de liga. De acordo com as necessidades do tempo do processo de sinterização, um único conjunto de fonte de alimentação pode ser usado para configurar vários fornos elétricos, e os fornos individuais são energizados separadamente para aquecer e desligar e resfriar para obter operação contínua.

Principais Especificações do Forno de Vácuo Horizontal

Temperatura máxima de operação: 2450 °C

Temperatura comum: 2400 °C

Volume da zona de alta temperatura: 200-2000mm × 300-4000mm; ou quadrado

Método de aquecimento: aquecimento por indução

De acordo com as necessidades do tempo do processo de sinterização, vários fornos elétricos podem ser dispostos em uma única fonte de alimentação, e o aquecimento e resfriamento dos fornos individuais podem ser realizados separadamente para obter operação contínua.

Medição de temperatura: termopar WRe5/26 (0-1700 °C) + termômetro infravermelho colorimétrico duplo US RATEK (1000-3200 °C); termômetro infravermelho monocromático US RATEK (300-1100 °C) + termômetro infravermelho de dupla razão US RATEK (1000-3200 °C)

O dispositivo adota aquisição de dados multicanal e exibe e opera na interface homem-máquina. Os parâmetros operacionais são claros à primeira vista, fáceis de operar e de baixa intensidade de trabalho.

O dispositivo possui funções de registro e despejo de dados, e os dados podem ser visualizados através de curvas históricas e podem ser transferidos para mídias de armazenamento removíveis.