CVD化学蒸気堆積炉 自動ジルコニアシンタリング炉

製品の説明

CVD化学気相成長炉、自動ジルコニア焼結炉

化学気相成長炉の用途:

化学気相成長炉 炭素源として炭素ガス（C3H8など）を用いた複合材料の化学気相成長に利用でき、C/C複合材料やSiC複合材料のCVDおよびCVI処理などが行えます。

化学気相成長炉の特徴:

高度な制御技術により、ガスの流量と圧力を正確に制御でき、炉内の堆積ガス流は安定しており、圧力変動範囲は小さいです。

特殊構造の堆積チャンバーは、良好なシール効果と強力な汚染防止能力を備えています。

多チャンネルの堆積ガス経路を採用し、流場が均一で、堆積デッドアングルが形成されず、堆積効果が良好です。

腐食性の高いテールガス、可燃性および爆発性のガス、堆積によって生成される固体の粉塵および低融点粘性製品を効果的に処理できます。

最新設計の耐腐食真空ユニットは、長い稼働時間と低いメンテナンス率を実現しています。

堆積炉の主な構成

炉扉：スクリューリフト//油圧リフト/;手動ロック/自動ロックリングロック

炉殻：全炭素鋼/内層ステンレス鋼/オールステンレス鋼

炉：ソフトカーボンフェルト/ソフトグラファイトフェルト/ハード複合フェルト

ヒーター：等方性グラファイト/成形三高グラファイト/微細グラファイト

プロセスガスシステム：体積/質量流量計;手動バルブ/自動バルブ;輸入/国産

真空ポンプと真空計---輸入/国産

マンマシンインターフェース：タッチスクリーン/産業用コンピュータ

電気部品：Chint/Schneider/Siemens