Horno de vacío de laboratorio de película de alta conductividad para la producción de grafitización de película PI

Descripción de producto

Horno de grafitización de películas de alta conductividad para la producción de grafitización de películas PI

Aplicación:

Se aplica a la producción de grafitización de películas de alta conductividad térmica (película PI).

Características:

La uniformidad de temperatura del cuerpo del horno: calefacción por inducción de media frecuencia, calefacción rápida, alta eficiencia, diseño único del horno,mejora en gran medida la uniformidad de temperatura del horno;
Bajo consumo de energía y buena estabilidad: el primer uso del mundo de material aislante de ladrillo de alumina de doble capa para evitar el filtro de carbono y el cortocircuito de la bobina,buen aislamiento térmico y resistencia al fuego, baja pérdida de calor y buena estabilidad del equipo;
De acuerdo con las necesidades del tiempo del proceso de sinterización, se pueden organizar varios hornos eléctricos en una sola fuente de alimentación.y la pluralidad de los hornos se energizan respectivamente para aumentar la temperatura y la potencia apagado y enfriado para realizar el funcionamiento continuo;
Sistema de control digital del flujo, control del flujo de agua y protección de cada gabinete de alimentación, contactor de frecuencia intermedia de alto rendimiento para la conversión del horno; agua completa PLC,sistema de control y protección automático de electricidad y gas.
Los principales parámetros técnicos:
Temperatura máxima de funcionamiento: 3000 °C
Temperatura común: 2800 °C
Atmosfera de trabajo en el horno: vacío, hidrógeno, nitrógeno, gas inerte, etc.
Uniformidad de temperatura: ≤ ± 25 °C
Medición de la temperatura: medición óptica de la temperatura en el infrarrojo lejano (1000-3200 °C);
Precisión de medición de la temperatura: 0,2 a 0,75%
Control de temperatura: control por programa y control manual; precisión de control de temperatura: ±1 °C