Высокопроводящая пленочная вакуумная печь для лаборатории для производства графитизации PI-пленки

Характер продукции

Печь для графитизации пленок высокой проводимости для производства пленок для графитизации ПИ

Применение:

Он применяется для производства графитизации пленки с высокой теплопроводностью (ПИ пленка).

Особенности:

Температурная однородность тела печи: среднечастотный индукционный нагрев, быстрое нагревание, высокая эффективность, уникальный дизайн печи,значительно улучшая температурную однородность печи;
Низкое энергопотребление и хорошая стабильность: первое в мире использование двухслойного изоляционного материала из глинозема для предотвращения короткого замыкания углеродного филта и катушки,хорошая теплоизоляция и огнестойкость, низкие тепловые потери и хорошая стабильность оборудования;
В соответствии с потребностями времени процесса сфинтерации, в одном источнике питания может быть организовано множество электрических печей,и множество печей, соответственно, заряжены энергией для повышения температуры и отключения мощности и охлаждения для достижения непрерывной работы;
Цифровая система мониторинга потока, мониторинг потока воды и защита каждого шкафа питания, высокопроизводительный контактник средней частоты для преобразования печи; комплексный PLC вода,Система автоматического управления и защиты электроэнергии и газа.
Основные технические параметры:
Максимальная рабочая температура: 3000 °C
Общая температура: 2800 °C
Рабочая атмосфера в печи: вакуум, водород, азот, инертный газ и т.д.
Однородность температуры: ≤ ± 25 °C
Измерение температуры: оптическое измерение температуры дальнего инфракрасного излучения (1000-3200 °C);
Точность измерения температуры: от 0,2 до 0,75%
Контроль температуры: программное управление и ручное управление; точность контроля температуры: ±1 °C