Hoge geleidbaarheid film lab vacuümoven voor PI film grafitisatie productie

Productomschrijving

Hoge Geleidbaarheid Film Grafitisatie Oven voor PI Film Grafitisatie Productie

Toepassing:

Het wordt toegepast op de grafitisatieproductie van film met hoge thermische geleidbaarheid (PI-film).

Kenmerken:

De temperatuuruniformiteit van de ovenlichaam: de middenfrequentie inductieverwarming, snelle verwarming, hoog rendement, uniek ovenontwerp, waardoor de temperatuuruniformiteit van de oven aanzienlijk wordt verbeterd;
Laag energieverbruik en goede stabiliteit: de eerste ter wereld die dubbellaagse aluminiumoxide baksteen isolatiemateriaal gebruikt om kortsluiting van koolstofvilt en spoel te voorkomen, goede warmte-isolatie en brandwerendheid, laag warmteverlies en goede apparatuurstabiliteit;
Afhankelijk van de behoeften van de sinterproces tijd, kan een veelvoud aan elektrische ovens in een enkele voeding worden geplaatst, en de veelvoud aan ovens worden respectievelijk bekrachtigd om de temperatuur te verhogen en uit te schakelen en af te koelen om continue werking te realiseren;
Digitaal flow monitoring systeem, waterstroom monitoring en bescherming van elke voedingkast, hoogwaardige middenfrequentie contactor voor ovenconversie; uitgebreid PLC water-, elektriciteits- en gas automatisch besturings- en beveiligingssysteem.
De belangrijkste technische parameters:
Maximale bedrijfstemperatuur: 3000 °C
Gemeenschappelijke temperatuur: 2800 °C
Werkatmosfeer in de oven: vacuüm, waterstof, stikstof, inert gas, etc.
Temperatuuruniformiteit: ≤ ± 25 °C
Temperatuurmeting: ver-infrarood optische temperatuurmeting (1000-3200 °C);
Temperatuurmeetnauwkeurigheid: 0,2 tot 0,75%
Temperatuurregeling: programmacontrole en handmatige controle; temperatuurregelnauwkeurigheid: ±1 °C