Forno de vácuo de laboratório de filme de alta condutividade para produção de grafite de filme PI

Descrição de produto

Forno de Grafitação de Filme de Alta Condutividade para Produção de Grafitação de Filme PI

Aplicação:

É aplicado à produção de grafitação de filme de alta condutividade térmica (filme PI).

Características:

Uniformidade da temperatura do corpo do forno: aquecimento por indução de média frequência, aquecimento rápido, alta eficiência, design exclusivo do forno, melhorando muito a uniformidade da temperatura do forno;
Baixo consumo de energia e boa estabilidade: o primeiro uso mundial de material isolante de tijolo de alumina de dupla camada para evitar curto-circuito de feltro de carbono e bobina, boa isolação térmica e resistência ao fogo, baixa perda de calor e boa estabilidade do equipamento;
De acordo com as necessidades do tempo do processo de sinterização, uma pluralidade de fornos elétricos pode ser disposta em uma única fonte de alimentação, e a pluralidade de fornos são energizados respectivamente para aumentar a temperatura e desligar e resfriar para realizar a operação contínua;
Sistema digital de monitoramento de fluxo, monitoramento e proteção do fluxo de água de cada gabinete de fonte de alimentação, contator de frequência intermediária de alto desempenho para conversão de forno; sistema abrangente de controle e proteção automática de água, eletricidade e gás PLC.
Os principais parâmetros técnicos:
Temperatura máxima de operação: 3000 °C
Temperatura comum: 2800 °C
Atmosfera de trabalho no forno: vácuo, hidrogênio, nitrogênio, gás inerte, etc.
Uniformidade da temperatura: ≤ ± 25 °C
Medição de temperatura: medição de temperatura óptica infravermelha distante (1000-3200 °C);
Precisão da medição de temperatura: 0,2 a 0,75%
Controle de temperatura: controle de programa e controle manual; precisão do controle de temperatura: ±1 °C