高伝導性フィルム研究室真空炉 PIフィルムグラフィティゼーション生産

製品の説明

高熱伝導フィルムグラファイト化炉（PIフィルムグラファイト化製造用）

用途:

高熱伝導フィルム（PIフィルム）のグラファイト化製造に適用されます。

特徴:

炉体内の温度均一性：中周波誘導加熱、高速加熱、高効率、独自の炉設計により、炉内の温度均一性を大幅に向上;
低エネルギー消費と優れた安定性：世界初の二重層アルミナレンガ断熱材を使用し、カーボンフェルトとコイルの短絡を防止、優れた断熱性と耐火性、低熱損失と優れた装置安定性;
焼結プロセスの時間的ニーズに応じて、複数の電気炉を単一の電源に配置し、複数の炉をそれぞれ通電して昇温させ、電源を切って冷却することで、連続運転を実現;
デジタル流量監視システム、各電源キャビネットの水流監視と保護、炉変換用の高性能中周波コンタクタ; 包括的なPLC水、電気、ガス自動制御および保護システム。
主な技術パラメータ:
最高動作温度：3000℃
常用温度：2800℃
炉内の作業雰囲気：真空、水素、窒素、不活性ガスなど
温度均一性：≤±25℃
温度測定：遠赤外線光学温度測定（1000～3200℃）;
温度測定精度：0.2～0.75%
温度制御：プログラム制御と手動制御; 温度制御精度：±1℃