Fourneau de dépôt de vapeur chimique personnalisé, fourneau d' induction à vide gazeux

Description de produit

Fourneau de dépôt de vapeur chimique personnalisé, fourneau d' induction à vide gazeux

Application du projet:

Il peut être utilisé pour le dépôt chimique de vapeur de matériaux composites avec du gaz de carbone (comme le C3H8, etc.) comme source de carbone,tels que le traitement CVD et CVI des matériaux composites C/C et des matériaux composites SiC.

Caractéristiques:

En utilisant une technologie de contrôle avancée, il peut contrôler avec précision le débit et la pression du gaz, le débit de gaz de dépôt dans le four est stable et la plage de fluctuations de pression est faible;

La chambre de dépôt de structure spéciale a un bon effet d'étanchéité et une forte capacité antipollution;

La voie du gaz de dépôt multicanal est adoptée, le champ d'écoulement est uniforme, l'angle mort de dépôt n'est pas formé et l'effet de dépôt est bon;

Les gaz de réserve hautement corrosifs, les gaz inflammables et explosifs, les poussières solides et les produits visqueux à faible point de fusion produits par dépôt peuvent être traités efficacement;

L'unité de vide anti-corrosion de dernière génération a une longue durée de fonctionnement et un faible taux d'entretien.

Configuration principale du four de dépôt

Porte du four: élévation à vis / / élévation hydraulique /; verrouillage manuel / verrouillage automatique verrouillage à anneau

Carcasse de four: acier au carbone complet / acier inoxydable à couche interne / tout acier inoxydable

Furonnerie: feutre de carbone souple / feutre de graphite souple / feutre composite dur

Chauffage: graphite isostatique / graphite moulé à trois hauteurs / graphite fin

Système de gaz de procédé: débitmètre de volume / masse; vanne manuelle / vanne automatique; importé / national

Pompes à vide et jauges à vide --- importées/domestiques

Interface homme machine: écran tactile / ordinateur industriel

Composants électriques: Chint / Schneider / Siemens