Horno de deposición de vapor químico personalizado, horno de inducción de vacío de gas

Descripción de producto

Horno de deposición de vapor químico personalizado, horno de inducción de vacío de gas

Aplicación:

Puede utilizarse para la deposición química de vapor de materiales compuestos con gas de carbono (como C3H8, etc.) como fuente de carbono,como el tratamiento CVD y CVI de materiales compuestos C/C y materiales compuestos SiC.

Características:

Utilizando tecnología de control avanzada, puede controlar con precisión el flujo y la presión del gas, el flujo de gas de deposición en el horno es estable y el rango de fluctuación de la presión es pequeño;

La cámara de deposición de la estructura especial tiene un buen efecto de sellado y una fuerte capacidad antipollución.

Se adopta la trayectoria del gas de deposición multicanal, el campo de flujo es uniforme, no se forma el ángulo muerto de deposición y el efecto de deposición es bueno;

Los gases de cola altamente corrosivos, los gases inflamables y explosivos, el polvo sólido y los productos viscosos de bajo punto de fusión producidos por deposición pueden tratarse eficazmente.

La última unidad de vacío anticorrosión de diseño tiene un largo tiempo de trabajo y baja tasa de mantenimiento.

Configuración principal del horno de deposición

Puerta del horno: elevación por tornillo / / elevación hidráulica /; bloqueo manual / bloqueo automático bloqueo de anillo

Cubierta de horno: acero al carbono completo / acero inoxidable de capa interna / todo acero inoxidable

Horno: fieltro de carbono blando / fieltro de grafito blando / fieltro compuesto duro

Calentador: grafito isostático / grafito moldeado de tres grados / grafito fino

Sistema de gas de proceso: medidor de caudal de volumen / masa; válvula manual / válvula automática; importada / nacional

Bombas de vacío y medidores de vacío--- importación/doméstico

Interfaz hombre-máquina: pantalla táctil / ordenador industrial

Componentes eléctricos: Chint / Schneider / Siemens